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微分干涉金相顯微鏡供應廠家 該款微分干涉顯微鏡的設計原理是以平面偏振光為光源，光線經棱鏡折射后分成兩束，在不同時間經過樣品的相鄰部位，然后經過另一棱鏡將這兩束光匯合，從而樣品中厚度上的微小差別就會轉化成明暗區別，增加了樣品反差，造成了三維立體感。

正置金相顯微鏡公司供應MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰

一體視顯微鏡供應廠家 體視顯微鏡提供優質的光學系統和耐用可靠的操作機構。該機型工作距離長，清晰范圍大，附件齊全操作方便。可廣泛應用于醫療衛生，農林地質，電子精密機械等行業和部門，特別適合于LED，PCB檢驗，沖壓電鍍檢驗，電子元件檢驗。 類型 定倍型體視顯微鏡

倒置金相顯微鏡生產廠家 MKL系列倒置金相顯微鏡采用優質的無限遠光學系統，同時配備明暗場通用的長工作距離平場平場消色差物鏡，多光路的系統設計，可同時支持雙目鏡筒觀察和數碼攝像裝置觀察。

正置金相顯微鏡廠家 MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰

金相分析圖譜供應廠家 根據國家標準GB 10651-89，美國標準 ASTM：E45-87，主要適用于經過延伸變形（如軋制、鍛造、冷拔等）的鋼材中非金屬夾雜物的顯微評定。檢驗夾雜物一般同時檢驗幾種類型的夾雜并經常進行淬火處理。鋼中主要的元素是鐵，但并非純鐵，其中會含有一定的雜質，雜物共有四種，分為A、B、C、D四類，A代表硫化物，B代表氧化鋁，C代表硅酸鹽類，D代表球狀氧化

蘇州金相分析圖譜供應 根據國家標準GB 10651-89，美國標準 ASTM：E45-87，主要適用于經過延伸變形（如軋制、鍛造、冷拔等）的鋼材中非金屬夾雜物的顯微評定。檢驗夾雜物一般同時檢驗幾種類型的夾雜并經常進行淬火處理。鋼中主要的元素是鐵，但并非純鐵，其中會含有一定的雜質，雜物共有四種，分為A、B、C、D四類，A代表硫化物，B代表氧化鋁，C代表硅酸鹽類，D代表球狀氧化

正置金相顯微鏡供應MKL系列正置金相顯微鏡是針對半導體工業、硅片制造業、電子信息產業、冶金工業需求而開發的，作為高級金相顯微鏡用戶在使用時能夠體驗其*性能，可廣泛應用于半導體、FPD、電路封裝、電路基板、材料、鑄件/金屬/陶瓷部件、精密模具的檢測。本儀器采用了反射和透射兩種照明形式，在反射光照明下可進行明暗場觀察和DIC觀察、偏光觀察。在透射光下作明場觀察。穩定、高品質的光學系統使成像更清晰